干法刻蚀中，射频电源的功率与频率对刻蚀结果都有哪些影响？

知识星球（星球名：芯片制造与封测技术社区，星球号：63559049）里的学员问：干法刻蚀中，射频电源的功率与频率对刻蚀结果都有哪些影响？

什么是RF的功率与频率？

RF功率（RF Power）,是指射频电源提供给等离子体系统的能量大小，用于等离子体的产生和稳定,通常以瓦特（W）为单位。

RF频率（RF Frequency）,是指射频电场的振荡频率，通常以赫兹（Hz）为单位。常用的频率有13.56MHz，2.45GHz，27MHz，60MHz，2MHz等。

功率一定时，频率越高，等离子体密度越高，离子的能量越低。
频率对刻蚀的影响？
1，等离子体空间分布的均匀性
高频电场振荡更快，电子在一个周期内被电场加速的时间更短，因此电子能量集中在较窄的范围内，分布更均匀。

2，离子能量的分布

低频RF，如2 MHz，离子能量分布较宽，不集中。

高频RF，离子能量更集中。
3，等离子体的密度：高频RF生成更高密度的等离子体

4，等离子体中化学反应的主导性
高频RF，更多的自由基生成，促进化学刻蚀。

低频RF，可增强物理刻蚀。

5，刻蚀的选择性
高频RF，可提高刻蚀的化学选择性。

低频RF，由于离子轰击较强，会导致选择性下降。