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【EIS芯片应用专题之二】SENSIPLUS DCMU深度解读:面向锂离子电池的紧凑低功耗ASIC芯片在线高分辨率EIS

TL;DR:Ria等人(2023)提出基于SENSIPLUS ASIC芯片的双电池管理单元(DCMU),实现0.1 Hz至15 kHz的宽频段在线EIS测量,激励电流最高200 mA,阻抗分辨率达20 μΩ(标准差,1 kHz / 100 mA激励),可同时监测单体锂电及两串电池。该系统在70×70 mm² PCB上集成了刺激-传感单元(SSU)与MCU,测量结果与文献数据定性吻合,为分布式BMS的芯片化EIS监测提供了参考设计。

论文信息

  • Andrea Ria et.al. Online High-Resolution EIS of Lithium-Ion Batteries by Means of Compact and Low Power ASIC.Batteries2023,9(5), 239

一、背景与问题(为什么需要这个研究)

锂离子电池(LIB)从1990年代初的3C便携设备起步,凭借其高能量密度、轻量化和长循环寿命的组合优势,逐步扩展至电动汽车、大型储能等场景。电动汽车快充快放需求日益增长,锂离子电池的热失控和寿命衰减问题也随之凸显。在电动汽车、大型储能等应用中,电池组由数十甚至数百个电芯串联组成,各单体参数(温度、SOC、SOH)差异显著,传统的集中式BMS面临布线困难和数据处理压力[7,8]。

电化学阻抗谱(EIS)通过向电池注入小幅交流扰动信号,测量电池的频域阻抗响应,从而提取等效电路模型参数,实现SOH和SOC的在线估计,被认为是传统库仑计数和直流电压监测方法的重要补充[9,10]。然而,现有EIS方案存在以下问题:实验室仪器体积庞大、功耗高、无法在线部署;部分紧凑型方案需要外部辅助电源(如6V独立电池)或商用数据采集系统[13,14];基于ASIC的早期方案仅适用于扣式电池等高阻场景,分辨率不足以覆盖几Ah至数十Ah容量电池的mΩ级阻抗[15]。

从工程约束角度,分布式BMS中的每个CMU必须同时满足"紧凑、低功耗、自供电(由被测电池供电)"三个条件。因此,核心挑战在于:如何在小尺寸、低功耗条件下,实现亚mΩ级的阻抗分辨率?

二、核心创新与方法(这篇论文做了什么)

2.1 系统架构与设计目标

DCMU的设计目标是构建一个自供电的紧凑型双电池管理单元,在上一代CMU基础上解决三个核心限制,并将应用范围从单体扩展至双串锂电。

系统由三个功能模块组成:

模块核心器件功能描述
SSU(刺激与传感单元)SENSIPLUS IC + 功率电流源 + ACU-WB激励信号生成、电池电压响应采集
MCU(微控制器单元)微控制器 + 通信接口控制指令解析、I²C通信
OPS(可选电源)3.7V锂电池蓝牙通信时的隔离供电

MCU与SSU之间通过I²C数字隔离器(Si8400AA-B-IS)实现电气隔离,将电池电气域(GND~V_BAT)与MCU域分离,防止地回路干扰。当使用USB通信时,MCU直接由USB供电;使用蓝牙时则需OPS独立供电。

2.2 相比上一代CMU的改进

改进项上一代CMU(v1)DCMU(v2)改善幅度
最低EIS频率40 Hz0.1 Hz扩展400倍
最大激励电流15 mA(峰值)200 mA(直流叠加交流峰值400 mA)提升13倍
电流源耐压4.2 V(仅支持单体)10 V(支持双串电池)电压范围提升2.4倍
阻抗分辨率~100 μΩ(估算)20 μΩ改善5倍

三、关键技术细节(电路设计/算法/系统架构)

3.1 SENSIPLUS芯片核心架构

SENSIPLUS是Sensichips与比萨大学联合研发的单芯片多传感器接口集成电路,采用0.35 μm Smart-Power工艺制造,在DCMU中承担波形合成与信号采集两大核心功能。

3.1.1 双引擎正弦波合成策略

这是本文的核心技术创新点。SENSIPLUS在同一套硬件电路上实现了两种互补的波形合成模式:

模式一:开关电容模拟正弦合成器(高频段 40 Hz ~ 2 MHz)

电路架构基于Miller积分器,其核心工作原理是:将正弦信号离散采样后,计算相邻采样点的电荷差值,通过正弦加权电容阵列将这些电荷包注入积分器。积分器输出的电荷累加即为目标正弦波形。

具体实现细节:

  • Miller积分器的反馈电容为数字可编程电容阵列(7 bit分辨率)
  • 正弦加权电容阵列由128个按正弦函数值比例设计的单位电容组成
  • 每个时钟周期完成一次电荷包注入,128个时钟周期完成一个正弦周期
  • 波形幅度调节通过改变积分器反馈增益实现(等效于改变采样点差值)
  • 采样生成分辨率:12 bit
  • 能效优势:无须额外DAC,切换功耗极低

模式二:DDS直接数字合成(低频段 0.1 Hz ~ 40 Hz)

针对低频段,开关电容模拟合成器面临泄漏电流积累导致的直流电平漂移问题。DCMU采用DDS模式作为替代方案:

  • 禁用正弦加权电容阵列(停止正弦电荷包注入)
  • 仅激活直流路径,Miller积分器工作在纯积分模式
  • 由MCU计算正弦波形离散样本,通过I²C写入SP的DAC寄存器
  • 积分器对离散样本进行连续积分重构,输出模拟正弦波形
  • 每周期采样点数:64个(较模拟模式减半,以适应低频段更长周期)
  • 采样生成分辨率:12 bit

两种模式的切换完全通过固件配置实现,无须改变芯片物理布局。这一"双引擎"策略使频率下限从40 Hz扩展至0.1 Hz,覆盖约5.5个数量级。

3.1.2 18 bit ΔΣ ADC与信号链
  • ADC类型:单环二阶ΔΣ调制器
  • 有效分辨率:18 bit(ENOB约17 bit @ 1 kHz带宽)
  • 数字滤波器:Comb-Integrator(CIC)级联滤波器
  • 解调产物抑制机制:通过恰当设置ADC采样频率(与激励频率同步),使解调产生的谐波分量落在CIC滤波器的零点位置,实现无外接模拟滤波器的频谱纯化
  • 无大电容模拟滤波器:利于芯片级集成,节省PCB面积
3.1.3 可编程带隙基准与温度感知
  • 内置可编程带隙基准电压源(Bandgap Reference)
  • 所有内部基准为全差分类型,共模电压统一为V_dd/2
  • 内部基准电压V_BG = 2 V(标称值)
  • 温度感知功能:片上温度传感器,测量精度**±0.5°C**,用于内置电阻的温度漂移补偿
  • 片内电阻采用高阻值多晶硅电阻(方块电阻约1 kΩ/□),便于与Smart-Power工艺兼容
3.1.4 通信接口与扩展能力
  • 支持三种数字接口:SPI(最高10 MHz)、I²C(最高400 kHz)、SENSIBUS(Sensichips专有单线协议)
  • OTP(一次可编程)存储器:3 bit可编程I²C地址
  • 多芯片并联能力:最多8片SENSIPLUS共享同一I²C总线

3.2 刺激与传感单元(SSU)电路详解

SSU是DCMU的模拟前端核心,由功率电流源和交流不平衡惠斯通电桥(ACU-WB)两个子模块构成。

3.2.1 功率电流源电路

┌─────────────┐
V_IC ──┬─┤ OP₁
│ └─────┬───────┘
│ │ 电压位移
│ ▼
│ ┌─────────────┐
└─┤ OP₂ ├──→ I_STIM ──┬──→ Battery
└─────┬───────┘ │
│ │
M₁ R_S (2.5Ω)
(IRLR024N) │
│ │
GND GND

核心器件选型:

  • OP₂:运算放大器,构成负反馈电流源的误差放大器,将V_STIM转换为受控电流I_STIM
  • M₁:功率NMOSFET(IRLR024N,International Rectifier),漏极耐压55 V、连续电流17 A(TC=100°C)、栅极电荷Qg=12 nC @ Vgs=10 V,低导通电阻(R_DS(on)=75 mΩ @ Vgs=10 V)确保电流源线性度
  • R_S:电流检测电阻,2.5 Ω / 0.5 W金属膜电阻,功率余量约2倍(200 mA时功耗0.1 W)

电平位移器(OP₁):

由于SENSIPLUS输出的V_IC共模电平为V_dd/2 = 1.65 V,而电流源需要V_STIM在0 V附近变化以实现双向电流输出,OP₁与电阻网络构成电平位移电路:

  • 当V_IC = V_dd/2时,V_STIM被推移至0 V,I_STIM = 0(零电流基准点)
  • V_IC范围V_dd/4 ~ 3V_dd/4对应I_STIM范围0 ~ V_BG/(2R_S)

静态传输特性(Keysight B2902B SMU测量):

  • 斜率:394 mA/V(V_IC输入端测试)
  • V_BAT在2.7~10 V范围内,斜率波动**<1%** (说明M₁的有限输出阻抗被OP₂负反馈有效补偿)
  • 最大输出电流限制于R_S功率:稳态200 mA @ R_S=2.5 Ω

激励电流估算:

ISTIM(max)​=2RS​VBG​​=2×2.5Ω2V​=400 mA(峰值)

考虑直流叠加,交流激励幅度约100 mA(峰峰值200 mA),论文实测与该估算吻合。

3.2.2 交流不平衡惠斯通电桥(ACU-WB)

┌──C₁──┐

│ 4.7μF │

V_BAT-S ──┬──R₁──┬──A───┤ IA+

│3MΩ │ │

R₂ │ │ SP IA

1MΩ │ │

│ ▼ │

GND ────┴——──R_V──B──┤ IA-

│ 100kΩ │

└────────—──┘

工作原理(直流分析):

  • 直流时,C₁开路,电桥平衡方程为:R₁·R_V = R₂·(V_BAT/R₁ + 0)
  • 解得V_A = V_B = V_BAT·R_V/(R₁+R_V) ≈ 0.33·V_BAT
  • 该共模电压设计使IA输入共模范围覆盖2.7~10 V全量程,避免饱和

工作原理(交流分析):

  • 对于激励频率f >> 1/(2π·C₁·R₁) ≈ 0.01 Hz,C₁阻抗Z_C ≈ 1/(2π·f·4.7μF) << R₁
  • C₁等效短路,A点直接接V_BAT-S,B点接地
  • 电桥"断开",IA输入即为电池电压交流扰动分量

关键设计优势:

  • 直流偏置由电阻网络固定,交流扰动由C₁"直通",无需机械开关切换
  • 4线开尔文测量(Force+Sense分离):V_BAT_F/S两根sense线直接接电池极柱,消除引线寄生阻抗(通常mΩ级,与电池阻抗可比拟)
  • 宽电压范围支持:单电池2.7~4.2 V、双串5.4~8.4 V,均无需修改硬件
3.2.3 无源元件完整清单
元件规格/型号备注
R₁3 MΩ1%精度高值电阻降低桥臂功耗
R₂1 MΩ1%精度与R₁构成直流分压比
R₃620 kΩOP₁反馈网络
R_V100 kΩ1%精度桥臂电阻,调节共模点
R_S2.5 Ω0.5 W,金属膜电流检测,功率余量2倍
C₁4.7 μF薄膜电容低频交流耦合,容值公差需±10%内
LDOMCP1802-3.3Microchip输入耐压12 V,输出3.3 V,为SP供电
功率MOSFETIRLR024NInternational RectifierR_DS(on)=75 mΩ @ Vgs=10 V
数字隔离器Si8400AA-B-ISSilicon LabsI²C隔离,1 kVrms隔离耐压
NTC热敏电阻ERT-JZEV104FPanasonicB常数4250 K,10 kΩ @ 25°C

3.3 激励波形与扫频策略

DCMU采用对数等间隔分布的28个离散频率点,覆盖0.1 Hz至15.6 kHz范围:

频段频率点(Hz)合成模式
超低频0.1, 0.2, 0.4, 0.6, 0.8, 1, 2, 4, 6, 8, 10DDS
低频20, 40, 60, 80, 100混合/模拟
中频200, 400, 600, 800模拟合成
高频1k, 1.3k, 1.7k, 2.6k, 5.2k, 7.8k, 9.8k, 15.6k模拟合成

每个频点施加正弦激励,SP内部DSP同步解调提取同相(I)和正交(Q)分量,计算复阻抗:

Z=Istim​Vresponse​​=R+jX=I0​VI​​+jI0​VQ​​

四、实验结果与性能对比

4.1 测试条件

测试电池配置:

电池编号容量型号满电电压内阻(估算)
B1, B2, B32000 mAhSR674361P(磷酸铁锂/聚合物)4.1 V~20-50 mΩ @ 1 kHz
B410000 mAh1260100(动力型)4.1 V~5-15 mΩ @ 1 kHz

环境条件:

  • 室温实验:20 ± 2°C,无强制风冷
  • 高温实验:50°C恒温箱(热平衡后测量)
  • EIS扫频参数:交流激励幅度100 mA(峰峰值叠加在直流分量上),单次扫频约20分钟

4.2 阻抗分辨率标定

测试方法:150次重复测量(B1电池,1 kHz频率点),计算实部阻抗的标准差

测量结果:

指标数值说明
峰峰值噪声(等效阻抗)88 μΩ6σ覆盖区间
标准差(σ)20 μΩ分辨率指标
相对分辨率~0.1% @ 20 mΩ阻抗对应B1级别电池

分辨率改善的物理机制:

  • 激励电流从v1的15 mA提升至100 mA(峰值200 mA),增大约7倍
  • 电压扰动信号幅值V_noise = I_noise × Z_battery同比增大
  • 在ADC噪声底(输入参考噪声)固定的条件下,等效阻抗噪声反比下降

4.3 与同类系统的详细技术对比

系统架构激励电流频率范围阻抗分辨率电源要求尺寸自供电
本文DCMUASIC+外设200 mA0.1 Hz~15 kHz20 μΩ被测电池70×70 mm²
De Angelis 2022 [13]分立电路+商用DAQ50 mA0.1 Hz~10 kHz~100 μΩ独立电源PCB+外部设备
Carkhuff 2018 [14]分立BMS5 A1 mHz~1 kHz500 μΩ辅助6V电池模块级部分
Crescentini 2020 [15]低功耗ASIC1 mA0.1 Hz~100 kHz~1.5 Ω(扣式电池)被测电池芯片级
Islam 2020 [12]商用设备5 A0.01 Hz~5 kHz500 μΩ独立电源设备级

关键差异分析:

  1. 激励电流对比:DCMU的200 mA介于分立方案(mA~A量级)和商用设备(5 A)之间,对于几Ah至数十Ah容量电池提供了合理的信噪比平衡。激励电流过大会引起电池极化效应扰动,过小则信噪比不足。

  2. 自供电能力:DCMU与Crescentini方案均支持自供电,但后者分辨率仅适用于扣式电池(高内阻场景),无法覆盖动力电池。

  3. ASIC集成度:DCMU采用SENSIPLUS作为核心,但功率MOSFET和运算放大器仍为外接元件,尚未实现单芯片化。

4.4 单电池与双串电池EIS验证

实验设置:B1(3.9 V)、B2(3.9 V)分别测量后串联测量,对比代数求和预测曲线

结论:串联电池总阻抗测量值与B1+B2代数求和曲线高度吻合,说明SSU在双电压(7.8 V)条件下线性工作良好。两次单测间SOC约下降2%,解释了微小的实测偏差。

4.5 温度敏感性验证

对B3电池在20°C和50°C条件下进行EIS测量,50°C时Nyquist曲线出现全频段阻抗收缩现象:

  • 高频实部(欧姆阻抗R_s)降低约30%~50%
  • 中频半圆(电荷转移阻抗R_ct)直径显著缩小
  • 低频Warburg阻抗(扩散项)斜率变小

该结果与Zhang等人[10]的研究数据定性一致,验证了DCMU的温度敏感性检测能力。

4.6 SOC敏感性验证

对B3电池在100%、83%、68%、53%、45%、36%、20% SOC下进行EIS测量:

  • SOC 100%~45%区间:低频段(<10 Hz)阻抗先轻微收缩(轻微下降)后回升,全频段变化不显著
  • SOC < 50%:全频段阻抗开始整体扩张,低频Warburg弧逐渐增大
  • SOC ≈ 20%:阻抗急剧增大,尤其低频扩散弧显著扩张,标志着电池接近深度放电状态

该规律可作为在线SOC估计的特征判据,与文献[10]结果吻合。

五、工程落地评估

5.1 从论文到产品的差距分析

维度当前状态差距弥补路径
芯片集成度PCB分立方案(70×70 mm²)面积较大,难以嵌入电池模组Smart-Power单芯片化
校准流程依赖外接SMU的两步校准未实现芯片内自校准内置基准+数字校准算法
扫频速度~20分钟/次无法满足实时SOC估计压缩频率点数+并行采样
THD<2.5%高精度相位测量受限更高阶波形合成
温度漂移片内电阻温漂未补偿长时间工作精度退化利用±0.5°C温度感知进行数字补偿

5.2 单芯片化路径分析

论文明确指出,将OP₁、OP₂和功率MOSFET M₁集成到同一芯片上是可预见的目标。然而,这一路径面临以下技术挑战:

  1. 敏感读出电路与功率器件共基底:Smart-Power工艺将高压功率器件(55 V耐压MOSFET)与低压模拟电路(18 bit ADC、±0.5°C温度感知)集成在同一衬底上,功率器件开关时产生的衬底噪声耦合至敏感节点

  2. 集成电阻温度漂移:片内多晶硅电阻的温度系数(TC)通常在100~500 ppm/°C量级,以±0.5°C的片上温度感知精度进行实时补偿,在技术上具有可行性,但需要精确的电阻TC建模

  3. 估算目标尺寸:作者预期的"理想单芯片DCMU"仅需I²C隔离器和去耦电容两类外设,芯片面积可能控制在10×10 mm²以内

5.3 适用场景评估

推荐应用场景:

  • 消费电子类电池(2~10 Ah):电动工具、无人机、机器人等,对尺寸和功耗敏感,需要在线SOH监测
  • 分布式储能系统:兆瓦时级储能集装箱的电池簇管理,每簇电池配备独立DCMU
  • 实验室级电池研究平台:替代大型电化学工作站进行快速EIS筛选

不推荐场景:

  • 动力电池(数百Ah容量):mΩ级分辨率相对不足,需要更低的等效阻抗噪声
  • 实时BMS闭环控制:20分钟扫频周期无法支持毫秒级SOC估算反馈

六、FAQ

Q1:DCMU相比上一代CMU,解决了哪些核心瓶颈?

A1:论文的上一代CMU(基于SENSIPLUS v1)存在三个主要限制:最低EIS频率仅40 Hz(受限于开关电容正弦合成器的泄漏电流)、最大激励电流仅15 mA(分辨率受限)、电流源耐压上限仅4.2 V(仅支持单体)。DCMU通过引入DDS(直接数字合成)扩展低频端至0.1 Hz;通过外接功率MOSFET(IRLR024N)将激励电流提升至200 mA;通过LDO(MCP1802-3.3)支持最高10 V工作电压,从而兼容两串锂电。从数据看,阻抗分辨率从上一代的约100 μΩ改善至20 μΩ,提升约5倍。

Q2:20 μΩ的阻抗分辨率足够用吗?适用场景有哪些?

A2:从实验数据来看,该分辨率足以区分几Ah至数十Ah容量锂电的EIS特征(B1 2000 mAh电池在1 kHz处的实部阻抗约数十mΩ量级)。对于更大容量电池(如B4 10000 mAh),阻抗值会更低,但从实验结果看仍然可测。20 μΩ分辨率意味着对mΩ级电池阻抗的相对分辨率约为1%~5%,对于SOC变化(低频段阻抗变化明显)和温度变化(Nyquist曲线整体收缩)的检测均有效。该精度对于消费电子类电池和部分动力电池的在线SOH监测具有实用价值,但面对大功率动力电池(内阻往往在mΩ以下或更低)时信噪比会面临更大挑战。

Q3:DCMU为何需要双频段正弦波合成策略?

A3:SENSIPLUS芯片采用了两种互补的波形合成技术——高频段(40 Hz以上)使用开关电容模拟正弦合成器(每周期128采样点,12 bit分辨率),能效高且无需额外DAC;低频段(0.1~40 Hz)切换为DDS模式(每周期64采样点),通过在已有硬件上禁用正弦电荷包、仅激活直流路径来生成波形。这一"双引擎"策略在不改芯片物理布局的前提下将下限频率从40 Hz拓展至0.1 Hz,扫频范围达到约5.5个数量级(0.1 Hz~15 kHz)。

Q4:ACU-WB(交流不平衡惠斯通电桥)在测量中扮演什么角色?

A4:ACU-WB是DCMU电压感知回路的核心。其巧妙之处在于:直流时电桥平衡(V_AB=0),避免仪表放大器饱和,同时R₁/R₂分压使共模电压适配IA输入范围;交流激励时,C₁(4.7 μF)的阻抗远小于R₁/R₂,电桥"断开",A/B两端直接连接电池,形成真4线开尔文测量,消除了引线寄生阻抗的影响。这种"直流平衡+交流直通"的机制使SSU无需机械开关切换即可兼容单电池和双串电池的宽电压范围(2.7~10 V)。

Q5:论文对未来单芯片集成方向有何启示?

A5:作者指出,将外接运放(OP₁/OP₂)和功率MOSFET(M₁)集成到同一芯片上是可预见的目标,但面临Smart-Power工艺中敏感读出电路与功率器件共基底的温度串扰挑战,特别是集成电阻的温度系数补偿。未来真正单芯片化EIS监测芯片的出现,有望将系统尺寸缩小至仅需I²C隔离器和去耦电容两类外设,从而实现真正意义上的嵌入式微型EIS传感器。

七、参考文献

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关键词:EIS ASIC | SENSIPLUS | DCMU | 阻抗分辨率20μΩ | 在线EIS | BMS芯片 | 分布式电池管理 | 锂离子电池监测 | 低功耗IC | 开关电容DDS

本文仅对文献和其他公开信息做分析,属个人兴趣,不构成对文献观点作者的背书,亦不代表任何文献作者和机构组织的立场或利益。

http://www.cnnetsun.cn/news/3126668.html

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